多氟多:電子級氫氟酸即將迎來收獲期
發布時間:2019-08-07 來源:大眾證券報     分享到:

   受日本限制對韓出口原材料影響,多家韓國企業不得不重新考慮供應商體系的搭建,在中長期內尋找替代采購對象。據媒體報道,LG顯示首席技術官Kang In-byeong近日表示,由于日本的半導體和顯示材料出口限制,該公司目前正在測試中國的氟化氫。除了LG顯示之外,三星電子和SK海力士也正在尋求從中國購買更多材料。

   據了解,日本從7月4日開始實行限制向韓國出口制造半導體和顯示屏必備的氟化聚酰亞胺、光致抗蝕劑和高純氟化氫三種原料。此前韓國半導體行業所需電子級氫氟酸從日本進口的比例不少于50%,

市場人士認為,作為氟化工行業龍頭企業,已布局電子級氫氟酸多年的多氟多將迎來收獲期。

  年報披露,2018年多氟多半導體電子氫氟酸的銷量超過1000噸,比前一年同期增長了600%以上,銷售額近2000萬元,成為多氟多新的利潤增長點。具體到對韓出口來看,2018年多氟多對韓出口量單月達約300噸,同比增長超10倍。

   今年7月上旬,多氟多董事長李世江到子公司盈氟金和檢查指導,并與寧夏石嘴山市領導共同為年產2萬噸電子級氫氟酸項目開工奠基。這是多氟多精心布局電子級氫氟酸項目的縮影。

   多氟多近日在接受機構調研時表示,公司具備22萬噸氫氟酸產能,包括半導體級、光伏級和普通級,其中半導體用氫氟酸達到UPSSS級。目前已有多家韓國企業前來洽談合作,平均每月電子級氫氟酸需求量達數千噸。

   能夠搶抓機遇進軍韓國市場并不是偶然。作為氟化工行業的絕對龍頭,多氟多近年來已在電子級氫氟酸生產工藝、技術水平等各方面打下了堅實根基。

據了解,電子級氫氟酸在半導體制造工藝中主要用于清洗、刻蝕等步驟。由于半導體中的金屬離子雜質會影響半導體中少子的壽命、表面的導電性、門氧化物的完整性和穩定性等參數,且金屬離子雜質在高溫下或電場下會向半導體本體擴散或在表面擴大分布,導致半導體性能下降,因此半導體級氫氟酸對其中的金屬離子含量有非常嚴格的要求,且適用的晶圓半徑越大,制程越先進,對金屬離子含量的要求越高。

由于電子級氫氟酸市場化應用門檻極高,2017年之前,國內芯片行業所用的電子級氫氟酸幾乎全靠從日本、美國、歐洲、臺灣等國家和地區進口。

   為了能突破超凈高純電子級氫氟酸生產關鍵技術,多氟多于2008年開始進行大量實驗,依托30年氟化工生產經驗優勢,不斷完善工藝技術,改進生產設備,研制開發了具有自主知識產權的三級純化和兩級膜過濾技術制備超凈高純電子級氫氟酸。同時在精餾提純、環境控制、設備優化等關鍵技術上實現了突破。

   多氟多副董事長李云峰此前接受媒體訪問時介紹,多氟多以工業無水氫氟酸為原料,開發了電子級氫氟酸新工藝,2013年建立了萬級清洗、千級灌裝、百級分析室、電子級自動灌裝線,制程設計為全球最高端純化工藝UPSS級,產品純度達到PPT級。從2018年10月開始,多氟多電子級氫氟酸成功打開了國際市場,實現批量出口,進入韓國兩大半導體公司的供應鏈,被最終應用3D-NAND和 DRAM的工藝制程中,證明產品性能完全達到業界先進水平。

   李云峰自信地表示,全球具備最高品質電子級氫氟酸生產線的企業屈指可數,多氟多是國內第一家。

   據悉,目前多氟多電子級氫氟酸產能為5000噸,已基本實現滿產。預計2019年底,公司將新建成5000噸產能,并計劃明年一季度投產,屆時達到萬噸生產規模。


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