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9月1日起,高純碳化硅微量元素的測定啟用新國標
發布時間:2019-09-04 來源:中國標準服務網     分享到:

碳化硅具有高機械強度、化學穩定、耐一腐蝕等性能,是一種非常重要的基礎材料。而超細粉體在集成系統、電子技術、光子技術、精密儀器、國防工業和機械工業等多種領域里廣泛應用。在這些應用中粉末的純度直接影響最終產品的質量,而粉末表面各種微量雜質元素的量直接決定著粉末純度,因此建立碳化硅粉表面各種微量雜質元素量的檢測方法是很必要的。


2019年9月1日起,高純碳化硅微量元素的測定啟用新國標(GB/T37254-2018)。


高純碳化硅微量元素的測定(GB/T37254-2018)規定了采用電感耦合等離子體原子發射光譜(ICP-OES)法和電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)法測定高純碳化硅中微量元素含量的方法。


本標準適用于碳化硅質量分數含量大于或等于99.9%的高純碳化硅材料中鋁、砷、鈣、鉻、銅、鐵、汞、鉀、鎂、錳、鈉、鎳、鉛、硫、鈦、鋅等16種元素的測定。各元素的測定范圍見表1(以質量分數計)。

表1:高純碳化硅微量元素的測定(GB/T37254-2018)

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附陶瓷行業其他標準的實施情況

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